Ausschreibung

Publikationsdatum Kantonales Amtsblatt

  BS  03.03.2018
Publikationsdatum Simap: 03.03.2018

1. Auftraggeber

1.1 Offizieller Name und Adresse des Auftraggebers

Bedarfsstelle/Vergabestelle: Universität Basel
Beschaffungsstelle/Organisator: Universität Basel,  zu Hdn. von Alexander Diezel, Petersplatz 1,  4051  Basel,  Schweiz,  Telefon:  061 207 26 47,  E-Mail:  alexander.diezel@unibas.ch,  URL www.unibas.ch

1.2 Angebote sind an folgende Adresse zu schicken

Universität Basel,  zu Hdn. von Alexander Diezel, Petersplatz 1,  4051  Basel,  Schweiz,  Telefon:  061 207 26 47,  E-Mail:  alexander.diezel@unibas.ch

1.3 Gewünschter Termin für schriftliche Fragen

19.03.2018

1.4 Frist für die Einreichung des Angebotes

Datum: 16.04.2018 Uhrzeit: 15:00, Spezifische Fristen und Formvorschriften:  Siehe Ausschreibungsunterlagen.

1.5 Datum der Offertöffnung:

17.04.2018, Uhrzeit:  15:00, Ort:  Petersgraben 35, 4. OG, Raum 406, 4051 Basel

1.6 Art des Auftraggebers

Andere Träger kantonaler Aufgaben

1.7 Verfahrensart

Offenes Verfahren

1.8 Auftragsart

Lieferauftrag

1.9 Staatsvertragsbereich

Ja

2. Beschaffungsobjekt

2.1 Art des Lieferauftrages

Kauf

2.2 Projekttitel der Beschaffung

Chemical Vapor Deposition Anlage

2.4 Aufteilung in Lose?

Nein

2.5 Gemeinschaftsvokabular

CPV:	38000000 - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)

2.6 Gegenstand und Umfang des Auftrags

Das ausgeschriebene System besteht aus einem Chemical Vapour Deposition (CVD) -System, welches das Wachstum von Germanium / Silizium-Heterostrukturen ermöglicht. Insbesondere muss das System das Wachs-tum von Heterostruktur-Nanodrähte auf Germanium- und Siliziumbasis ermöglichen. Dies erfordert Operations-temperaturen zwischen mindestens 50 und 600°C. Auch muss die Temperatur während des Wachstumsprozesses vollständig kontrollierbar sein. Weiter wird während dem Wachstumsprozess die vollständige Kontrolle über den Druck in der Wachstumskammer, in einem Bereich zwischen 0.1 und 300 Torr, benötigt. Zugang für 6 ver-schiedene Gasquellen, welche individuell durch Mass Flow Controller (MFCs) gesteuert werden, sollte gewähr-leistet sein. Eine Systemsteuerungssoftware sollte Echtzeit-Prozesssteuerung, Datenprotokollierung und Rezept-bearbeitung ermöglichen. Das System muss über Software- und Hardware-Sicherheitsverriegelungen verfügen.

2.7 Ort der Lieferung

Departement Physik
Klingelbergstrasse 82
4056 Basel

2.8 Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems

180 Tage nach Vertragsunterzeichnung

Dieser Auftrag kann verlängert werden: Nein

2.9 Optionen

Ja

Beschreibung der Optionen: Siehe Ausschreibungsunterlagen.

2.10 Zuschlagskriterien

Technische Anforderungen  Gewichtung 70 
Angebotspreis  Gewichtung 30 

2.11 Werden Varianten zugelassen?

Nein

2.12 Werden Teilangebote zugelassen?

Nein

2.13 Liefertermin

5 Monate nach Vertragsunterzeichnung

3. Bedingungen

3.1 Generelle Teilnahmebedingungen

a. Einhaltung der Arbeitsbedingungen gem. §5 sowie Nachweis und Kontrolle gem. §6 des Gesetzes über öffentliche Beschaffungen des Kantons Basel-Stadt.
b. Bereitschaft zur Vorlage von Bankauskünften/-erklärungen und Angaben zum Umsatz der Anbieterin bezogen auf die ausgeschriebene Arbeitsleistung.

3.7 Eignungskriterien

Aufgrund der in den Unterlagen genannten Kriterien

3.8 Geforderte Nachweise

Aufgrund der in den Unterlagen geforderten Nachweise

3.9 Bedingungen für den Erhalt der Ausschreibungsunterlagen

Kosten: Keine

3.10 Sprachen

Sprachen für Angebote: Deutsch, Englisch

3.12 Bezugsquelle für Ausschreibungsunterlagen

unter www.simap.ch
Ausschreibungsunterlagen sind verfügbar ab: 05.03.2018  bis  16.04.2018
Sprache der Ausschreibungsunterlagen: Deutsch, Englisch

4. Andere Informationen

4.7 Offizielles Publikationsorgan

Kantonsblatt Basel-Stadt 18/2018
www.kantonsblatt.ch

4.8 Rechtsmittelbelehrung

Gegen diese Ausschreibung kann innert 10 Tagen, von der Veröffentlichung im Kantonsblatt Basel-Stadt an gerechnet, beim Verwaltungsgericht Basel-Stadt, Bäumleingasse 1, 4051 Basel, schriftlich Rekurs eingereicht werden. Die Rekursschrift muss einen Antrag und dessen Begründung enthalten. Die angefochtene Verfügung ist beizulegen. Die angerufenen Beweismittel sind genau zu bezeichnen und soweit möglich beizulegen.

Appels d'offres (résumé)

1. Pouvoir adjudicateur

1.1 Nom officiel et adresse du pouvoir adjudicateur

Service demandeur/Entité adjudicatrice: Universität Basel
Service organisateur/Entité organisatrice: Universität Basel, à l'attention de  Alexander Diezel,  Petersplatz 1,  4051  Basel,  Suisse,  Téléphone:  061 207 26 47,  E-mail:  alexander.diezel@unibas.ch,  URL www.unibas.ch

1.2 Obtention du dossier d´appel d´offres

sous www.simap.ch

2. Objet du marché

2.1 Titre du projet du marché

Chemical Vapor Deposition Anlage

2.2 Description détaillée des produits

Le système soumis à appel d’offre consiste en un système de dépôt chimique en phase vapeur (CVD, Chemical Vapor Deposition) permettant la croissance d’hétérostructures en germanium/silicium. De manière plus spécifique, le système doit permettre la croissance de nanofils consistant d’hétérostructures en silicium/germanium. Pour ce type de croissance, le système CVD doit pouvoir opérer, au minimum, entre 50°C et 600°C, et doit aussi offrir la possibilité de faire varier la température durant la croissance. La pression de la chambre doit aussi pouvoir être contrôlée et variée entre 0.1 et 300 Torr. Au minimum six différentes sources de gaz doivent utilisables dans la chambre CVD en conjonction avec des régulateurs de débit massiques (mass flow controller MFC). Le logiciel de contrôle du système doit permettre un contrôle des processus en temps réel, l’enregistrement des données ainsi que l’ajustement des recettes. Des interlocks hardware et software doivent être présent dans le système.

2.3 Vocabulaire commun des marchés publics

CPV:	38000000 - Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes)

2.4 Délai de clôture pour le dépôt des offres

Date: 16.04.2018 Heure: 15:00