Zuschlag

Publikationsdatum Simap: 28.11.2019

1. Auftraggeber

1.1 Offizieller Name und Adresse des Auftraggebers

Bedarfsstelle/Vergabestelle: ETH Zürich
Beschaffungsstelle/Organisator: Eidgenössische Technische Hochschule Zürich
Institut für Elektromagnetische Feloder, Säumerstrasse 4,  8803  Rüschlikon,  Schweiz,  E-Mail:  yuriy@ief.ee.ethz.ch

1.2 Art des Auftraggebers

Dezentrale Bundesverwaltung – öffentlich rechtliche Organisationen und andere Träger von Bundesaufgaben

1.3 Verfahrensart

Offenes Verfahren

1.4 Auftragsart

Lieferauftrag

1.5 Staatsvertragsbereich

Ja

2. Beschaffungsobjekt

2.1 Projekttitel der Beschaffung

Silicon deep reactive ion etching system (DRIE)

2.2 Gemeinschaftsvokabular

CPV:	38000000 - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)

3. Zuschlagsentscheid

3.1 Zuschlagskriterien

Gemäss Ausschreibung

3.2 Berücksichtigte Anbieter

Name: SPTS Technologies, Ringland Way,  NP18 2TA  Newport,  Grossbritannien
Preis (Gesamtpreis):  USD 847'094.00 ohne MWSt.

4. Andere Informationen

4.1 Ausschreibung

Publikation vom: 22.07.2019
im Publikationsorgan: www.simap.ch
Meldungsnummer 1088199

4.2 Datum des Zuschlags

Datum: 22.11.2019

4.3 Anzahl eingegangene Angebote

Anzahl Angebote: 3

4.5 Rechtsmittelbelehrung

Gegen diese Publikation kann gemäss Art. 30 BöB innert 20 Tagen seit Eröffnung schriftlich Beschwerde beim Bundesverwaltungsgericht, Postfach, 9023 St. Gallen, erhoben werden. Die Beschwerde ist im Doppel einzureichen und hat die Begehren, deren Begründung mit Angabe der Beweismittel sowie die Unterschrift der beschwerdeführenden Person oder ihrer Vertretung zu enthalten. Eine Kopie der vorliegenden Publikation und vorhandene Beweismittel sind beizulegen.