Support

Haben Sie Fragen oder benötigen Sie Unterstützung?
Häufige Fragen
Kontakt Simap-Helpdesk
Suche ändern
Sie können Ihre Suchkriterien ändern oder die Suche verfeinern
Stichwort:
Ort der Auftragserfüllung:
Zeitraum:
Heute

Laufende Woche

Laufendes Jahr

von
bis

Gesamt (letzte 3 Jahre)
Sie sind hier:
Startseite> Recherchieren> Einzelmeldungen

Ihre Ergebnisse

Sie suchten nach: Meldungs Nr : 1197935
22.05.2021|Projekt-ID 213223|Meldungsnummer 1197935|Zuschläge

Zuschlag

Publikationsdatum Simap: 22.05.2021

1. Auftraggeber

1.1 Offizieller Name und Adresse des Auftraggebers

Bedarfsstelle/Vergabestelle: Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL)
Beschaffungsstelle/Organisator: Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL)
Laboratory of photonic and quantum measurements (LPQM),  zu Hdn. von Professor Tobias J. Kippenberg, Bâtiment PH - Station 03,  1015  Lausanne,  Schweiz,  E-Mail:  rui.wang@epfl.ch

1.2 Art des Auftraggebers

Dezentrale Bundesverwaltung – öffentlich rechtliche Organisationen und andere Träger von Bundesaufgaben

1.3 Verfahrensart

Offenes Verfahren

1.4 Auftragsart

Lieferauftrag

1.5 Staatsvertragsbereich

Ja

2. Beschaffungsobjekt

2.1 Projekttitel der Beschaffung

Oefen für hoher Dichte Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (ICP-CVD)
Gegenstand und Umfang des Auftrags:  Die EPFL beabsichtigt ein Öfen für hoher Dichte Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (ICP-CVD) für ihre Reinraumeinrichtung (CMi). zu erwerben. Die Anlage wird auf dem neuesten Stand der Forschung in Siliziumnitrid basierend integrierten Mikroresonator-Soliton-Frequenzkämmen basierend auf gewidmet sein.
Im Hinblick auf die Bedürfnisse des EPFL und die spezifischen wissenschaftlichen Ziele seines Labors LPQM wird der Schwerpunkt auf folgende Forschungsbereiche gelegt:
•Absheidung von SiO2 und Si3N4 Dünnschichten durch HDP-CVD-Prozesse mit SiH4.
•Entwicklung von ICP-CVD Prozesse mit SiCl4 für wasserstofffreien absheidung von SiO2 und Si3N4 Dünnschichten.
•In-situ-Entfernung von Metallverunreinigungen durch thermisches Glühen in Chlor (Cl2) -Atmosphäre.
•In-situ-Filmbehandlung für Stress-Engineering und Verdichtung.

2.2 Gemeinschaftsvokabular

CPV:  38000000 - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)

3. Zuschlagsentscheid

3.1 Zuschlagskriterien

Gemäss Ausschreibung

3.2 Berücksichtigte Anbieter

Name: Oxford Instruments GmbH, Borsigstraße 15a,  65205  Wiesbaden,  Deutschland
Preis (Gesamtpreis):  Ohne Angabe gemäss Art. 51 Abs. 4 Lit. b BöB und lVöB 2019

3.3 Begründung des Zuschlagsentscheides

Begründung: Das gewählte Material entspricht zum jetzigen und voraussehbaren Zeitpunkt am ehesten unseren finanziellen
Mitteln und Bedürfnissen (Sicherung der Investitionen) unter Berücksichtigung der schnellen Entwicklung der Anforderungen in
der Forschung.

4. Andere Informationen

4.1 Ausschreibung

Publikation vom: 09.12.2020
im Publikationsorgan: www.simap.ch
Meldungsnummer 1168309

4.2 Datum des Zuschlags

Datum: 20.05.2021

4.3 Anzahl eingegangene Angebote

Anzahl Angebote: 5

4.5 Rechtsmittelbelehrung

Gegen diese Verfügung kann gemäss Art. 56 Abs. 1 des Bundesgesetzes über das öffentliche Beschaffungswesen (BöB) innert 20 Tagen seit Eröffnung schriftlich Beschwerde beim Bundesverwaltungsgericht, Postfach, 9023 St. Gallen, erhoben werden. Die Beschwerde ist im Doppel einzureichen und hat die Begehren, deren Begründung mit Angabe der Beweismittel sowie die Unterschrift der beschwerdeführenden Person oder ihrer Vertretung zu enthalten. Eine Kopie der vorliegenden Verfügung und vorhandene Beweismittel sind beizulegen.
Die Bestimmungen des Verwaltungsverfahrensgesetzes (VwVG) über den Fristenstillstand finden gemäss Art. 56 Abs. 2 BöB keine Anwendung.