Zuschlag- Publikationsdatum Simap: 02.12.2021
1. Auftraggeber1.1 Offizieller Name und Adresse des Auftraggebers- Bedarfsstelle/Vergabestelle: ETH Zürich
Beschaffungsstelle/Organisator: ETH Zürich Abteilung Finanzdienstleistungen Einkaufskoordination, Scheuchzerstrasse 68/70,
8092
Zürich,
Schweiz,
E-Mail:
publictender@ethz.ch
1.2 Art des Auftraggebers- Dezentrale Bundesverwaltung – öffentlich rechtliche Organisationen und andere Träger von Bundesaufgaben
1.3
Verfahrensart
-
Freihändiges Verfahren
1.4
Auftragsart
-
Lieferauftrag
1.5
Staatsvertragsbereich
-
Ja
2. Beschaffungsobjekt2.1 Projekttitel der Beschaffung- Integrated Glove Box – Physical Deposition System
2.2 GemeinschaftsvokabularCPV: | 38000000 - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) |
3. Zuschlagsentscheid3.1 Zuschlagskriterien- entfällt
3.2 Berücksichtigte Anbieter- Name: Angstrom Engineering Inc.,
N2E 1W8
Kitchener, Ontario,
Kanada
Preis (Gesamtpreis):
USD 1'072'620.00 ohne MWSt.
3.3 Begründung des Zuschlagsentscheides- Begründung: Gemäss Art. 21, Abs. 2, Lit c BöB
Mit diesem in die Glovebox integrierten physikalischen Abscheidungssystem können Metalle, anorganische und organische Stoffe unabhängig voneinander in verschiedenen Kammern abgeschieden werden, um eine Kreuzkontamination zu vermeiden. Der Zuschlagsempfänger bietet als Einziger folgende Voraussetzungen dazu: • Eine Heizeinheit mit einer Temperatur von bis zu 600°C in einen Tisch mit variablem Winkel für die Abscheidung unter glattem Winkel (GLAD) im Asputter integriert. Durch Drehen der Probe in einem schrägen Winkel zur Abscheidungsfahne kann sich das Material in verschiedenen Richtungen auf dem Substrat ablagern, was eine neue Dimension zur Einstellung der Materialeigenschaften eröffnet. • Einzigartiges Design, das die Koevaporation mehrerer Materialien aus verschiedenen Magnetronquellen ermöglicht, einschließlich gepulster DC-, RF- und HiPIMS (High-power impulse magnetron sputtering). • Perowskit-Beschichtungskammer bei der Metall- und Organikkammern getrennt sind und die speziellen Widerstandsheizungen eine übermäßige Verdampfung von Precursor-Quellen während der Heizphase verhindern. • Spezielle temperaturgesteuerte Stufe, die das Substrat auf -20°C abkühlen und auf 100°C aufheizen kann, während das Substrat gleichzeitig rotiert. Dies ermöglicht es, die molekulare Ausrichtung in den molekularen Wirts-Gast-Festkörpern zu kontrollieren.
4. Andere Informationen 4.2 Datum des Zuschlags- Datum: 29.11.2021
4.5 Rechtsmittelbelehrung- Gegen diese Verfügung kann gemäss Art. 56 Abs. 1 des Bundesgesetzes über das öffentliche Beschaffungswesen (BöB) innert 20 Tagen seit Eröffnung schriftlich Beschwerde beim Bundesverwaltungsgericht, Postfach, 9023 St. Gallen, erhoben werden. Die Beschwerde ist im Doppel einzureichen und hat die Begehren, deren Begründung mit Angabe der Beweismittel sowie die Unterschrift der beschwerdeführenden Person oder ihrer Vertretung zu enthalten. Eine Kopie der vorliegenden Verfügung und vorhandene Beweismittel sind beizulegen.
Die Bestimmungen des Verwaltungsverfahrensgesetzes (VwVG) über den Fristenstillstand finden gemäss Art. 56 Abs. 2 BöB keine Anwendung.
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